Laboratorio Strati Sottili

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Ente di Afferenza
Università degli Studi di Cagliari
Area / Struttura
Dipartimento di Fisica
Sede
Cittadella Universitaria di Monserrato
Responsabile Laboratorio
Antonio Andrea Mura
Descrizione
Il laboratorio è attrezzato per la crescita di strati sottili in atmosfera controllata , per la deposizione di ossidi ad alto gap, per la metallizzazione, con controllo nanometrico degli spessori. Le attività descritte sono realizzate in atmosfera controllata ottenuta mediante due glove-boxes interconnesse. I tassi di concentrazione di O2 e H2O sono inferiori a 1ppm. All'interno del sistema si trovano uno spin-coater ed un evaporatore per la deposizione di strati ultra sottili. La strumentazione di cui è dotato il laboratorio consente oltre alla crescita di strati sottili anche la realizzazione di contatti elettrici.
Il laboratorio è inoltre dotato di un dip-coater.
Attività rivolte alle imprese,
enti pubblici, cittadini
Ricerca commissionata
Partecipazione a progetti nazionali di ricerca in partenariato
Partecipazione a progetti internazionali di ricerca in partenariato
Didattica Universitaria
Attività rivolte ai ricercatori
Partecipazione a progetti nazionali di ricerca in partenariato
Partecipazione a progetti internazionali di ricerca in partenariato
Servizi del Laboratorio
Crescita strati sottili
Servizio offerto all'esterno con tariffario: NO
Crescita di strati ultrasottili in atmosfera controllata mediante spin-coater.
Strumenti utilizzati: Sistema Glove-boxes
Crescita strati sottili per evaporazione e sputtering
Servizio offerto all'esterno con tariffario: NO
Crescita di strati ultrasottili mediante evaporatore e sputtering.
Strumenti utilizzati: Sistema Glove-boxes
Deposizione contatti metallici
Servizio offerto all'esterno con tariffario: NO
Deposizione contatti metallici mediante evaporazione metallica con utilizzo di maschere realizzate ad hoc.
Strumenti utilizzati: Sistema Glove-boxes
Deposizione film sottili
Servizio offerto all'esterno con tariffario: NO
Deposizione mediante spin-coating e dip-coating di film da soluzione anche in atmosfera controllata.
Strumenti utilizzati: Dip-coater; spin coater
Manipolazione e preparazione materiali e prodotti
Servizio offerto all'esterno con tariffario: NO
Cappa aspirata per la manipolazione e trattamenti chimici di substrati e materiali.
Strumenti utilizzati: Cappa aspirata
Trattamenti Termici
Servizio offerto all'esterno con tariffario: NO
Trattamenti termici di film sottili mediante forno a piastra di precisione.
Strumenti utilizzati: Piastra termica di precisione.
Strumenti del Laboratorio
Camera a guanti (Glove-box) Brown MBrwon 200B
Sistema di gloves-box per la preparazione e crescita di materiali in atmosfera controllata ( % ossigeno <1 ppm) . Il sistema èintegrato con spin-coater, evaporatore, sputter RF e apparati per i trattamenti termici di substrati e campioni.
Cappa aspirante Saral Saral
Cappa aspirata per la sintesi di materiali e trattamenti chimici dei substrati impiegati nella deposizione di strati/film sottili.
Dip-coater Nadetec Innovation ND-R rotary coater
Dip-coater per deposizione di film sottili mediante estrazione del substrato. Velocità di immersione/estrazione da 0.6 mm/min a 2400 mm/min. Braccio rotante per la deposizione di multistrati in sequenza. Controllore di processo con software di gestione per la programmazione di differenti sequenze di deposizione.
NOTA: http://www.nadetech.com/index.php/en/products/rotatory-dip-coater
Evaporatore Emitech K975XR remote evaporator
Evaporatore per metalli e sputter a radio frequenza (RF) per la deposizione di metalli ed ossidi ad alto gap. Crescita di strati sottili con controllo nanometrico dello spessore. Controller di processo per la gestione dei parametri di crescita.
Piastra termica di precisione Harry GESTIG KEIT GMBH PZ28-3TD
Piastra termica di precisione con programmatore separato per trattamenti termici sino a 600 °C. La particolare conformazione della piastra assicura un trattamento termico uniforme.
Spin-coater Speedline Technologie P6700 series
Lo Spin-coater per la deposizione centrifuga di strati sottili mediante rotazione del substrato. La velocità di rotazione da 100 rpm a 8000 rpmcon rampe di accelerazione e decelerazione totalmente programmabili.
Modalità di accesso
Il laboratorio è disponibile su prenotazione.
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Dove si trova
Monserrato, Cittadella Universitaria di Monserrato, S.S. 554 bivio per Sestu.